[发明专利]一种仿生温敏分子印迹复合膜的制备方法及应用

摘要

本发明涉及一种仿生温敏分子印迹复合膜制备方法，属环境材料制备技术领域。特指以多孔氧化铝陶瓷膜为基底，青蒿素(artemisinin)作为模板分子，丙烯酰胺(AM)为功能单体，N-异丙基丙烯酰胺为温敏单体，乙二醇二甲基丙烯酸酯(EGDMA)为交联剂，结合多巴胺生物仿生原理，结合多巴胺自组装界面聚合和原子转移自由基聚合，制备仿生温敏分子印迹复合膜的方法。静态吸附实验结合选择性分离渗透实验，研究了制备的印记膜的吸附平衡、动力学和选择性识别分离性能。结果表明利用本发明获得的青蒿素印迹膜具有较高的吸附能力和优越的青蒿素分子识别渗透性能，同时也具备了优异的环境响应型(温度敏感开关)选择性分离性能。

主权项

一种仿生温敏分子印迹复合膜的制备方法，其特征在于：包括如下步骤：(1)多巴胺表面自组装聚合改性多孔氧化铝陶瓷膜制备得到聚多巴胺改性膜PDA@Al₂O₃，室温干燥备用；(2)步骤(1)制备的PDA@Al₂O₃表面引发原子转移自由基聚合引发剂改性制得PDA@Al₂O₃膜，即PDA@Al₂O₃‑Br；(3)将溶有青蒿素，丙烯酰胺，N‑异丙基丙烯酰胺的乙醇溶液，超声震荡，充分溶解，室温静置12h，形成稳定的模板‑单体复合物，然后向所述复合物中加入交联剂和步骤(2)制得的PDA@Al₂O₃‑Br；通氮气30min后，加入溴化亚铜CuBr，N，N，N'，N″，N″‑五甲基二亚乙基三胺PMDETA，室温下，持续通氮反应20‑24h；反应结束后，洗涤，干燥，即得表面引发分子印迹复合膜，40℃下真空干燥至恒重，制得仿生温敏分子印迹复合膜TMICMs。