[发明专利]一种用于25～100μm波长范围内的减反射材料的制备方法有效
| 申请号： | 201410799595.1 | 申请日： | 2014-12-19 |
| 公开（公告）号： | CN104714261A | 公开（公告）日： | 2015-06-17 |
| 发明（设计）人： | 张贵英;刘存兄;倪邦发;王平生;肖才锦;金象春;王兴华;姚永刚;华龙 | 申请（专利权）人： | 中国原子能科学研究院 |
| 主分类号： | G02B1/111 | 分类号： | G02B1/111;C08J7/12;C08L67/00 |
| 代理公司： | 无 | 代理人： | 无 |
| 地址： | 102413 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明属于减反射材料制备技术领域，具体涉及一种用于25～100μm波长范围内的减反射材料的制备方法。该方法是利用加速器产生的质量数大于40的重粒子在真空室中双面辐照厚度为40～60μm的聚酯膜，使辐照后聚酯膜一面的孔密度为8×106～10×106/cm2，另一面的孔密度为5×106～7×106/cm2，辐照过后的样品在清洁的大气环境中放置1～3个月，然后利用氢氧化钠溶液对聚酯膜进行蚀刻后得到所需减反射材料。该材料具有核孔孔径深度增大、辐照粒子密度要求降低且能够实现在25～100μm波长范围内反射率小于3％的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 25 100 波长 范围内 反射 材料 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种用于25～100μm波长范围内的减反射材料的制备方法，其特征在于，该方法包括以下步骤：(1)辐照利用加速器产生的重粒子在真空室中双面辐照聚酯膜，使辐照后聚酯膜一面的孔密度为8×106～10×106/cm2，另一面的孔密度为5×106～7×106/cm2，所述重粒子为质量数大于40的粒子，粒子能量为150～500MeV，束流密度为1×106～1×107/cm2，聚酯膜的厚度为40～60μm；(2)光致氧化辐照过后的样品在清洁的大气环境中放置1～3个月，使聚酯膜中的潜径迹发生光致氧化过程；(3)蚀刻(ⅰ)将步骤(2)得到的聚酯膜置入装有分析纯酒精的干净表面皿中，浸泡5～15分钟，取出并放在干净的滤纸上晾干；(ⅱ)将步骤(ⅰ)得到的聚酯膜置入蚀刻槽内进行预蚀刻，聚酯膜两面都浸入蚀刻液中；(ⅲ)用紫外灯辐照以敏化步骤(ⅱ)得到的聚酯膜，敏化后重新放入蚀刻液中在超声波作用下间歇蚀刻后清洗晾干得到所需减反射材料；步骤(ⅱ)～步骤(ⅲ)所述蚀刻液为氢氧化钠溶液。
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