[发明专利]一种电子束和多重图案光刻混合工艺版图图案分解方法

摘要

本发明属于集成电路半导体制造技术领域，涉及一种电子束和多重图案光刻混合工艺中版图图案分解方法，该方法将最小化电子束使用面积和缝合点数目的版图图案分解问题表示成删点K划分问题。所述方法包括步骤：根据输入版图文件和冲突距离B，构建冲突图G；然后随机产生删点K划分初始解，应用已有的删点两划分算法对当前最优解重复迭代优化，直到当前最优解若干次未发生更新；最后从中挑选最优的删点K划分结果作为输出。本发明迭代应用已有的删点两划分算法，并采用随机多起始点策略试图寻找全局最优解，达到电子束和多重图案混合刻蚀工艺中版图图案分解的目的。

主权项

一种电子束和多重图案混合光刻工艺版图图案分解方法，其特征在于，其包括如下步骤：输入参数：版图文件、冲突距离B、多重图案光刻掩膜版数目K、最大迭代次数n_r、连续无更新次数m、电子束面积权重α和缝合边权重β；输出结果：版图图案的电子束和多重图案混合工艺分配方案；步骤1：根据输入版图文件和冲突距离B，构建冲突图G；步骤2：利用删点两划分算法对冲突图顶点进行删点K划分优化，其中每个划分代表一个顶点集合，即重复迭代应用删点两划分算法改进当前最优解，直到当前最优解若干次未发生更新；步骤3：反复调用步骤2达n_r次，并从中挑选最优的删点K划分结果作为输出，算法结束。