[发明专利]一种石墨烯的稳定掺杂方法

摘要

本发明涉及一种石墨烯的稳定掺杂方法，包括将掺杂试剂分子包裹在石墨烯与石墨烯之间的步骤和/或将掺杂试剂分子包裹在基底与石墨烯之间的步骤，将掺杂试剂分子包裹在基底与石墨烯之间的步骤中使用临时基底。本发明实现稳定的掺杂效果，均是将掺杂剂分子覆盖在石墨烯层与基底层之间，避免了空气与掺杂剂分子直接接触，长期保持掺杂剂分子在石墨烯表面的原始掺杂状态，从而可以保持掺杂效果的长期稳定。

主权项

一种石墨烯的稳定掺杂方法，其特征在于：包括将掺杂试剂分子包裹在石墨烯与石墨烯之间的步骤和/或将掺杂试剂分子包裹在基底与石墨烯之间的步骤；其中，所述将掺杂试剂分子包裹在石墨烯与石墨烯之间的步骤具体如下：步骤1)将石墨烯通过CVD法生长在铜箔上，然后将临时基底贴合在所述石墨烯上；步骤2)将所述铜箔放入刻蚀液中，对所述铜箔进行刻蚀、水洗、吹干后，得到临时基底/石墨烯层样片，将所述样片的石墨烯的一面与基底贴合，然后去掉临时基底，再将石墨烯面放入掺杂液中进行掺杂，水洗、干燥后，得到石墨烯面上设有掺杂剂的样片；步骤3)将所述石墨烯面上设有掺杂剂的样片贴合到另一个临时基底/石墨烯层的样片上，然后再去掉所述临时基底，得到从下到上为依次为基底、石墨烯、掺杂剂及石墨烯顺序的样片形式；所述将掺杂试剂分子包裹在基底与石墨烯之间的步骤具体如下：1.1)将石墨烯通过CVD法生长在铜箔上，然后将临时基底贴合在所述石墨烯上；1.2)将所述铜箔放入刻蚀液中，对所述铜箔进行刻蚀，得到临时基底/石墨烯样片，再将所述样片的石墨烯面放入掺杂液中进行掺杂，再将进行掺杂的石墨烯的一面与基底贴合，然后去掉临时基底，得到石墨烯面上设有掺杂剂的样片，最终得到从下到上为依次为基底、掺杂剂及石墨烯顺序的样片形式；或者，将所述铜箔/石墨烯放入刻蚀液及掺杂液组成的混合液中，同时进行刻蚀及掺杂，再将进行掺杂的石墨烯的一面与基底贴合，然后去掉临时基底，得到石墨烯面上设有掺杂剂的样片，最终得到从下到上为依次为基底、掺杂剂及石墨烯顺序的样片形式。