[发明专利]一种小面积图形刻蚀深度的测量方法

摘要

本发明公开了一种小面积图形刻蚀深度的测量方法，包括：提供一参考样品，设置多个面积不同的刻蚀参考区并进行刻蚀，测量刻蚀参考区的刻蚀面积与刻蚀速度，建立刻蚀面积与刻蚀速度的模型；提供一刻蚀衬底，设置第一刻蚀图形和第二刻蚀图形；其中，第一刻蚀图形的面积大于第二刻蚀图形的面积；以相同的刻蚀工艺分别在第一刻蚀图形和第二刻蚀图形内刻蚀所述衬底；测量第一刻蚀图形的刻蚀深度并计算第一刻蚀图形的刻蚀速度；根据第一刻蚀图形的刻蚀速度及其面积前述的模型进行校正；根据校正后的刻蚀面积与刻蚀速度的模型计算第二刻蚀图形的刻蚀速度，并进一步计算得到第二刻蚀图形刻蚀深度。

主权项

1.一种小面积图形刻蚀深度的测量方法，其特征在于，包括：提供一参考样品，在所述参考样品上设置多个面积不同的刻蚀参考区，对所述多个刻蚀参考区进行刻蚀，测量每一刻蚀参考区的刻蚀面积与刻蚀速度，建立刻蚀面积与刻蚀速度的模型；提供一刻蚀衬底，在所述刻蚀衬底上设置第一刻蚀图形和第二刻蚀图形；其中，第一刻蚀图形的面积大于第二刻蚀图形的面积；以相同的刻蚀工艺分别在第一刻蚀图形和第二刻蚀图形内刻蚀所述衬底；测量第一刻蚀图形的刻蚀深度，根据刻蚀时间与刻蚀深度计算第一刻蚀图形的刻蚀速度；根据第一刻蚀图形的刻蚀速度及其面积，对所述刻蚀面积与刻蚀速度的模型进行校正；根据校正后的刻蚀面积与刻蚀速度的模型以及第二刻蚀图形的刻蚀面积，计算第二刻蚀图形的刻蚀速度；根据第二刻蚀图形的刻蚀速度以及刻蚀时间，计算第二刻蚀图形刻蚀深度；其中，所述刻蚀参考区面积为25nm2～10000μm2，所述第一刻蚀图形的面积为2μm2～10000μm2，所述第二刻蚀图形的面积为25nm2～25μm2。