[发明专利]光学装置、投影光学系统、曝光装置和制造物品的方法在审

专利信息
申请号: 201410806274.X 申请日: 2014-12-22
公开(公告)号: CN104749764A 公开(公告)日: 2015-07-01
发明(设计)人: 崔长植 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: G02B26/00 分类号: G02B26/00;G03F7/20
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 曾琳
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 本公开内容涉及光学装置、投影光学系统、曝光装置和制造物品的方法。本发明提供一种使反射镜的反射表面变形的光学装置,该光学装置包括:基板;固定构件,其被配置为将反射镜的包括反射镜的中心的部分固定到基板;以及多个致动器,每个致动器具有连接到反射镜的第一端和连接到基板的第二端,并且被配置为向反射镜的背面施加力,其中,所述多个致动器包括多个第一致动器和多个第二致动器,并且所述多个第一致动器被布置为使得每个第一致动器与反射镜的中心之间的距离比反射镜的中心与反射镜的外周之间的距离的一半长。
搜索关键词: 光学 装置 投影 光学系统 曝光 制造 物品 方法
【主权项】:
一种使反射镜的反射表面变形的光学装置,包括:基板;固定构件,所述固定构件被配置为将反射镜的包括反射镜的中心的部分固定到基板;和多个致动器,每个致动器具有连接到反射镜的第一端和连接到基板的第二端,并且被配置为向在反射表面的相反侧的背面施加力,其中,所述多个致动器包括多个第一致动器和多个第二致动器,当接收到单位量的外力时,第二致动器的第一端与第二端之间的距离的改变大于第一致动器的第一端与第二端之间的距离的改变,并且所述多个第一致动器被布置为使得每个第一致动器与反射镜的中心之间的距离比反射镜的中心与反射镜的外周之间的距离的一半长。
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