[发明专利]光激发光剂量检测晶体制备方法有效
| 申请号： | 201410806914.7 | 申请日： | 2014-12-23 |
| 公开（公告）号： | CN104775162B | 公开（公告）日： | 2018-10-30 |
| 发明（设计）人： | 周明奇 | 申请（专利权）人： | 国立中山大学 |
| 主分类号： | C30B31/02 | 分类号： | C30B31/02;C30B33/02 |
| 代理公司： | 长沙正奇专利事务所有限责任公司 43113 | 代理人： | 何为;袁颖华 |
| 地址： | 中国台湾高*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种光激发光剂量检测晶体制备方法，该方法是先将氧化铝（Al2O3）以碳包覆起来，在真空下经过扩散（Diffusion）后，使碳原子扩散进入氧化铝晶格内，再于大气下进行退火（Annealing），使氧与碳原子反应，透过C+O转换成CO，或C+O2转换成CO2，使氧化铝晶体产生氧空缺（Oxygen Vacancy），而可简易制得碳分布均匀的检测晶体（C:Al2O3）结构，具有光激发光剂量响应灵敏度高，且线性剂量响应范围宽的特性。 | ||
| 搜索关键词： | 激发 剂量 检测 晶体 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光激发光剂量检测晶体制备方法，其特征在于，该方法至少包含下列步骤：(A)于一氧化铝外面涂覆一层碳膜，以碳将氧化铝包覆形成碳包覆氧化铝结构；其中，碳膜选自碳粉、碳纸或人造石墨粉中的一种或几种；(B)将该碳包覆氧化铝结构置于一高温炉中，在抽真空无氧环境下，以1500℃‑1900℃的加热处理进行扩散程序，使碳原子扩散进入氧化铝晶格内；(C)在大气下的开放式高温炉中，以1400℃‑1800℃的加热处理进行退火程序，使氧化铝内部晶格氧与碳原子反应而形成氧空缺缺陷，以制成检测晶体C:Al2O3结构。
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