[发明专利]一种从煤制合成气中分离氢气的抗硫钯复合膜的制备方法无效
申请号: | 201410808377.X | 申请日: | 2014-12-24 |
公开(公告)号: | CN104492279A | 公开(公告)日: | 2015-04-08 |
发明(设计)人: | 赵海;徐有宁;刘俊清;关多娇;刘瑾;李兵 | 申请(专利权)人: | 沈阳工程学院 |
主分类号: | B01D71/02 | 分类号: | B01D71/02;B01D69/12;B01D69/02;B01D67/00;C01B3/56 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 110136 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: | 本发明涉及一种从煤制合成气中分离纯氢的抗硫钯复合膜的制备方法,首先采用磁控溅射技术或气相沉积法在陶瓷载体上淀积Ta?薄膜,得到一定厚度Ta膜沉积的基体;然后,采用化学镀在基体表面形成具有抗硫性能的金属钯复合膜。所形成的复合膜可以是Pd-Cu-Ce,Pd-Cu-La,Pd-Ag-Ce。本发明复合膜在煤制合成气提纯氢气过程中有很好的抗硫特性,这种膜的优点是对氢的渗透性高,还具有很高的机械性能。此方法制备的膜,在合成气气氛下,具有较高的抽提氢的纯度,比纯钯膜能够渗透更多的氢,并且耐用,还可以在高温下使用。 | ||
搜索关键词: | 一种 合成气 分离 氢气 抗硫钯 复合 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种从煤制合成气中分离纯氢的抗硫钯复合膜的制备方法,特征在于在陶瓷或不锈钢基体表面采用磁控溅射技术或气相沉积法淀积Ta?薄膜,采用化学镀在基体表面形成具有抗硫性能的金属钯复合膜;所形成的的复合膜有很好的抗硫特性,对氢的渗透性高,具有很高的机械性能,还可以在高温下使用。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于沈阳工程学院,未经沈阳工程学院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201410808377.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。