[发明专利]一种掩膜板、曝光装置、制作光敏树脂图案的方法及基板

摘要

本发明公开了一种掩膜板、曝光装置、制作光敏树脂图案的方法及基板，所述掩膜板包括：包括第一区域掩膜和第二区域掩膜，所述第一区域掩膜包括第一透光掩膜和遮光区掩膜，所述第二区域掩膜包括第二透光掩膜和遮光区掩膜，所述第一区域掩膜与所述第二区域掩膜交替设置。用以解决由于在制作基板时，因曝光形成的光敏树脂图案的线宽不一致而导致的显示不均匀(mura)问题。

主权项

1.一种掩膜板，其特征在于，包括：/n第一区域掩膜和第二区域掩膜；/n所述第一区域掩膜包括第一透光掩膜和遮光区掩膜；/n所述第二区域掩膜包括第二透光掩膜和遮光区掩膜；/n所述第一区域掩膜与所述第二区域掩膜交替设置；/n其中，所述第一区域掩膜对应于曝光装置的棱镜模组的两个棱镜交接处，所述第二区域掩膜对应于所述曝光装置的棱镜模组的棱镜的中间区域；所述第一透光掩膜为全透光掩膜，所述第二透光掩膜为灰阶掩膜；/n所述第二透光掩膜的透光率为所述第一透光掩膜的透光率的80％～90％或所述第二透光掩膜的透光率为所述第一透光掩膜的透光率的60％～80％；/n所述曝光装置使用所述掩膜板对基板上的光敏树脂层进行曝光；其中，当所述光敏树脂层需要不饱和的曝光量时，所述曝光装置使用所述第二透光掩膜的透光率为所述第一透光掩膜的透光率的80％～90％的掩膜板对所述光敏树脂层进行曝光；当所述光敏树脂层需要饱和的曝光量时，所述曝光装置使用所述第二透光掩膜的透光率为所述第一透光掩膜的透光率的60％～80％的掩膜板对所述光敏树脂层进行曝光。/n