[发明专利]一种超薄氮氧化硅膜材料及其制备方法和用途

摘要

一种超薄氮氧化硅膜材料及其制备方法：将衬底置于化学气相沉积设备腔体中，通入NH₃、O₂气体和含有SiH₄的气体作为反应气体，通入载体和保护气体，进行气相沉积，获得氮氧化硅膜材料，其中，所述化学气相沉积设备腔体的工作温度为100-260℃，工作压力为1-4Pa，功率为200-450W；其中，所述气相沉积的时间为15-40s；所述SiH₄气体与O₂气体的体积比为9-110，所述含有SiH₄的气体与NH₃气体的体积比为3-11，所述含有SiH₄的气体与载体和保护气体的体积比为0.1-1。本发明在四英寸硅基体上制备得到的氮氧化硅膜材料的厚度为6-9nm，薄膜不均匀性低于0.7％。

主权项

一种超薄氮氧化硅膜材料，其特征在于，所述氮氧化硅膜材料的厚度为6‑9nm；且在四英寸基底范围内，薄膜不均匀性低于0.7％；其中，所述不均匀性的计算方法为：薄膜不均匀性＝(最大值‑最小值)/(平均值×2)×100％，四英寸基底范围内，所测不同点数不少于10个，优选不少于17个。