[发明专利]氧化铟锡低温镀膜方法在审
| 申请号： | 201410812550.3 | 申请日： | 2014-12-24 |
| 公开（公告）号： | CN104746003A | 公开（公告）日： | 2015-07-01 |
| 发明（设计）人： | 王学雷;朱景河;王鹏;黄伟东;黄亚清;李建华 | 申请（专利权）人： | 信利（惠州）智能显示有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/08 | 分类号： | C23C14/08;C23C14/22;C23C14/58 |
| 代理公司： | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人： | 邓义华;陈卫 |
| 地址： | 516006 广东省惠州市仲*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明提供一种氧化铟锡低温镀膜方法，所述方法包括以下步骤：在真空腔室里安装氧化铟锡靶材；对上述真空腔室抽真空后充入氩气及水蒸气，在真空压力为0.2~0.7Pa的条件下制作第一膜层，所述氩气及水蒸气的体积比为90~110:1；于所述真空腔室内充入氩气及氧气，在真空压力为0.2~0.7Pa的条件下，在所述第一膜层上制作第二膜层，所述氩气及氧气的体积比为25~35:1。本发明氧化铟锡低温镀膜方法提高了氧化铟锡膜层的耐渗透、易蚀刻且结晶的特性，保证了产品性能的稳定性及耐候性，提升了产品的质量及使用寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 氧化 低温 镀膜 方法 | ||
【主权项】：
一种氧化铟锡低温镀膜方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：在真空腔室里安装氧化铟锡靶材；对上述真空腔室抽真空后充入氩气及水蒸气，在真空压力为0.2~0.7Pa的条件下制作第一膜层，所述氩气及水蒸气的体积比为90~110:1；于所述真空腔室内充入氩气及氧气，在真空压力为0.2~0.7Pa的条件下，在所述第一膜层上制作第二膜层，所述氩气及氧气的体积比为25~35:1。
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