[发明专利]一种利用AAO模板制备纳米图形化衬底的方法在审
| 申请号： | 201410816726.2 | 申请日： | 2014-12-24 |
| 公开（公告）号： | CN104593727A | 公开（公告）日： | 2015-05-06 |
| 发明（设计）人： | 韩沈丹;黄宏嘉 | 申请（专利权）人： | 西安神光安瑞光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/18 | 分类号： | C23C14/18;C25D11/12;H01L33/00;H01L33/20 |
| 代理公司： | 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 | 代理人： | 胡乐 |
| 地址： | 710100 陕西*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明属于LED图形化衬底技术领域，提供一种利用AAO模板制备纳米图形化衬底的方法，其步骤包括：在单晶衬底上制备出有序的AAO模板，然后使用湿法刻蚀或干法刻蚀将AAO模板的孔道复制到单晶衬底上，最终获得纳米孔道图形化衬底。采用本发明提供的纳米图形化衬底的制备方法，能够在降低制造成本的同时提高GaN基LED光效。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 利用 aao 模板 制备 纳米 图形 衬底 方法 | ||
【主权项】：
一种利用AAO模板制备纳米图形化衬底的方法，其特征在于：在单晶衬底上制备出有序的AAO模板，然后使用湿法刻蚀或干法刻蚀将AAO模板的孔道复制到单晶衬底上，最终获得纳米孔道图形化衬底。
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