[发明专利]一种板式PECVD镀膜异常的补救装置在审
| 申请号： | 201410817102.2 | 申请日： | 2014-12-25 |
| 公开（公告）号： | CN105895551A | 公开（公告）日： | 2016-08-24 |
| 发明（设计）人： | 沈凯锋 | 申请（专利权）人： | 百力达太阳能股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67;H01L31/18 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 314500*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种板式PECVD镀膜异常的补救装置和一种等离子体发射源不均匀性的估算方法，包括底部固定板、所述底部固定板上安装的合页以及所述合页的另一端固定的相同尺寸的石墨薄片，可以低成本、便捷、有效地补救PECVD生产过程中的薄膜不均匀，缓冲因等离子体发射源局部功率的不均匀引发的镀膜工艺后的硅片在制品规则性的异常。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 板式 pecvd 镀膜 异常 补救 装置 | ||
【主权项】：
一种板式PECVD镀膜异常的补救装置，其特征在于，包括底部固定板、合页、石墨薄片，并且：所述底部固定板，将本装置固定于PECVD机台；所述合页、石墨薄片，组合成组件并存在若干组，固定于底部固定板。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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