[发明专利]用于场补偿应用的自适应荧光镜定位有效

专利信息
申请号: 201410818343.9 申请日: 2014-12-24
公开(公告)号: CN104720750B 公开(公告)日: 2022-04-26
发明(设计)人: A.D.蒙塔格;M.巴尔-塔 申请(专利权)人: 韦伯斯特生物官能(以色列)有限公司
主分类号: A61B5/06 分类号: A61B5/06;G01B7/14;G01B7/004;G01D18/00;A61B90/00;A61B5/07;A61M25/01;A61B5/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 易皎鹤;汤春龙
地址: 以色列*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明公开了当场扰动元件在已知位置中时,通过创建反应场模型来实现用于定位探头的磁跟踪系统中的场扰动元件的补偿。磁场位置传感器设置在跟踪系统的场扰动元件和磁场发生器之间。当场扰动元件存在时,从位置传感器和在探头上的磁场传感器获得磁场读数。从位置传感器读数以及从反应场模型计算出的预测反应场来估计场扰动元件的位置。通过从位置传感器所检测的场减去预测反应场获得补偿测量。使用补偿测量调整来自探头传感器的读数,以便计算探头的真实位置。
搜索关键词: 用于 补偿 应用 自适应 荧光 定位
【主权项】:
一种方法,包括以下步骤:在校准阶段中执行以下步骤:使用多个磁场发生器在区域中生成磁场;将场扰动元件放置在所述区域内的已知位置中;以及当所述场扰动元件在所述已知位置中时,通过计算相应的反应磁场来创建反应场模型;以及在操作阶段中执行以下步骤:将所述场扰动元件放置在所述区域内的新位置中;在所述场扰动元件和所述磁场发生器之间设置磁场位置传感器;将探头的末梢段引入到所述区域中,探头磁场传感器被设置在所述末梢段上;使用所述磁场发生器重新生成扰动磁场;从所述探头磁场传感器获得所述扰动磁场的第一测量;从所述位置传感器获得所述扰动磁场的第二测量;从所述第二测量重建所述场扰动元件的所述新位置;从所述反应场模型获得用于所述重建的新位置的预测的反应磁场;通过从所述第二测量中减去所述预测的反应磁场来获得补偿的测量;根据所述补偿的测量调整所述第一测量;以及使用所调整的第一测量计算所述探头磁场传感器的位置。
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