[发明专利]一种新型的晶圆镀膜片光罩清洗工艺

摘要

本发明提供一种新型的晶圆镀膜片光罩清洗工艺，包括下列步骤：（1）将晶圆片镀膜片光罩置于去离子水的槽中，槽中去离子水的温度在5 ~ 30℃，浸泡时间为10s~600s；（2）配制清洗液：a,H₂SO₄ 浓度为30% ~ 99%；b,H₂O₂ 浓度为20% ~ 70%；将a,H₂SO₄和b,H₂O₂按1~10:1的体积比例混合撑拌均匀，加温至60~100℃置于另一槽中待用；（3）将步骤（1）浸泡后的晶圆片镀膜片光罩，置于步骤（2）配置的配有清洗液的槽中，浸泡时间为10s~600s；（4）脱水处理：用丙酮，或丙醇，或无水酒精，进行脱水处理，（5）烘干：使用烘烤烤箱进行最后的烘干处理，烤箱温度为80~150℃，烘烤时间为30s~600s。

主权项

一种新型的晶圆镀膜片光罩清洗工艺，包括下列步骤： （1）将晶圆片镀膜片光罩固定在专用夹具上，置于去离子水的槽中，DI wa槽中去离子水的温度在5 ~ 30℃，浸泡时间为10s~600s；（2）配制清洗液：a,H₂SO₄   浓度为30% ~ 99%；b,H₂O₂    浓度为20% ~ 70%  将a,H₂SO₄ 和b,H₂O₂按1~10: 1的体积比例混合撑拌均匀，加温至60~100℃置于另一槽中待用；（3）将步骤（1）浸泡后的固定夹具上的晶圆片镀膜片光罩，置于步骤（2）配置的配有清洗液的槽中，清洗液必须浸没晶圆片镀膜片光罩，浸泡时间为10s~600s；（4）脱水处理：用丙酮，或丙醇，或无水酒精，进行脱水处理，将浸泡过清洗液的晶圆片镀膜片光罩，置于配有上述化学溶液的槽中进行浸泡，溶液液位必须浸没过晶圆片镀膜片光罩，浸泡时间为30s~600s；（5）烘干：使用烘烤烤箱进行最后的烘干处理，烤箱温度为80~150℃，烘烤时间为30s~600s。