[发明专利]一种阻挡膜及其制作方法、显示装置有效
申请号: | 201410821093.4 | 申请日: | 2014-12-19 |
公开(公告)号: | CN104538425B | 公开(公告)日: | 2018-01-12 |
发明(设计)人: | 蔡雨;陈正忠 | 申请(专利权)人: | 上海天马微电子有限公司;天马微电子股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32;H01L51/52;H01L51/56 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司11291 | 代理人: | 刘松 |
地址: | 201201 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明实施例公开了一种阻挡膜及其制作方法、显示装置。本发明实施例提供一种阻挡膜,所述阻挡膜包括第一有机膜层和第二有机膜层,所述第一有机膜层形成有第一凹槽,所述第一有机膜层上设置有至少一层无机膜层,所述无机膜层填充所述第一凹槽,且所述无机膜层的厚度小于等于所述第一凹槽的深度;所述无机膜层上设置有所述第二有机膜层,所述第二有机膜层为平坦化层。本发明实施例中通过将无机膜层的厚度小于等于所述第一凹槽的深度,使得无机层是不连续的,不在同一层中,这样在弯曲过程中就可避免出现应力集中的现象,降低了无机层断裂的风险。 | ||
搜索关键词: | 一种 阻挡 及其 制作方法 显示装置 | ||
【主权项】:
一种阻挡膜,其特征在于,所述阻挡膜包括第一有机膜层和第二有机膜层,所述第一有机膜层形成有第一凹槽,所述第一有机膜层上设置有至少一层无机膜层,所述无机膜层填充所述第一凹槽,且所述无机膜层的厚度小于等于所述第一凹槽的深度,所述第一凹槽使得所述无机膜层为非连续结构;所述无机膜层上设置有所述第二有机膜层,所述第二有机膜层为平坦化层。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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