[发明专利]一种背面对准测量装置及方法在审
| 申请号： | 201410827944.6 | 申请日： | 2014-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN105807578A | 公开（公告）日： | 2016-07-27 |
| 发明（设计）人： | 周许超;潘炼东;杜荣 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提出一种硅片对准测量系统，包括：工件台，用于支撑所述硅片；光源，用于照射所述硅片上的对准标记；图像探测单元，用于获取所述对准标记的透射成像信息，其特征在于，所述工件台带有光源通道，所述光源通道用于使所述光源发出的光线无遮挡地通过；所述光源在所述硅片和所述工件台的一侧；所述图像探测单元在所述硅片和所述工件台的另一侧。本发明还提出一种背面对准测量方法。本发明采用透射式红外对准光源穿透硅片，直接把硅片背面标记成像在镜头物面，可有效避免反射式红外对准工艺适应性差的弊端。采用旋转式chuck台，不同于背面中继镜头对准方式，对准标记数目不受限制，对准精度有极大提高。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 背面 对准 测量 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种硅片对准测量系统，包括：工件台，用于支撑所述硅片；光源，用于照射所述硅片上的对准标记；图像探测单元，用于获取所述对准标记的透射成像信息，其特征在于，所述工件台带有光源通道，所述光源通道用于使所述光源发出的光线无遮挡地通过；所述光源在所述硅片和所述工件台的一侧；所述图像探测单元在所述硅片和所述工件台的另一侧。
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