[发明专利]激光照射方法和激光照射装置有效
申请号: | 201410828127.2 | 申请日: | 2014-12-26 |
公开(公告)号: | CN104741777B | 公开(公告)日: | 2018-09-04 |
发明(设计)人: | 金贤中;方勇植;朴建植;高秉昊;池昊真 | 申请(专利权)人: | AP系统股份有限公司 |
主分类号: | B23K26/00 | 分类号: | B23K26/00;B23K26/042;H01L21/268 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 陶敏;臧建明 |
地址: | 韩国京畿道华城市*** | 国省代码: | 韩国;KR |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: | 本发明涉及一种激光照射方法以及激光照射装置。该激光照射方法包含:分析正被照射的激光且检测所述激光的第二峰值;以及根据所述所检测的第二峰值与参考峰值的比较和确定结果而控制是否将稀有气体或卤素气体供应到振荡所述激光的激光振荡器。根据实施例,当照射在薄膜上的激光脉冲的第二峰值小于参考峰值时,供应稀有气体以允许所述第二峰值增大且达到所述参考峰值。当所述第二峰值大于所述参考峰值时,供应卤素气体以允许所述第二峰值减小且达到所述参考峰值。本发明的激光照射方法和激光照射装置能够监视激光且校准激光器。 | ||
搜索关键词: | 激光 照射 方法 装置 | ||
【主权项】:
1.一种监视激光且校准激光器的激光照射方法,其特征在于包括:分析正被照射的激光的强度以检测第一峰值,其是最高激光强度,以及第二峰值,其是第二高激光强度;将所述第二峰值与预设参考峰值进行比较且确定所述第二峰值是否满足所述参考峰值;以及根据所述比较的结果而控制是否将稀有气体或卤素气体供应到振荡所述激光的激光振荡器,其中当所述所检测的第二峰值小于所述参考峰值时,供应所述稀有气体。
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