[发明专利]一种投影物镜倍率调整系统和方法在审
| 申请号： | 201410830267.3 | 申请日： | 2014-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN105807567A | 公开（公告）日： | 2016-07-27 |
| 发明（设计）人： | 郭银章;汪明天 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提出一种投影物镜倍率调整系统，用于光刻设备，所述光刻设备包括掩模、投影物镜以及工件台，其特征在于，所述投影物镜光学系统中还包括一气体密封腔，通过调整所述气体密封腔中混合气体的配比来调整所述混合气体的折射率，从而调整所述投影物镜的倍率；所述气体密封腔位于所述投影物镜光学系统中气体折射率改变对倍率灵敏度高且对成像质量影响较小的光学镜片之间。本发明的投影物镜倍率调整系统和方法使机械结构更加简单，从而提高了整个投影物镜机械结构的稳定性和可靠性。同时，可以补偿投影光刻物镜在曝光过程中的热效应、投影光刻物镜在不同海拔环境下、以及投影光刻物镜使用环境的温度和压力等变化导致的投影光刻物镜倍率改变，还有实际工艺情况需要投影物镜提供倍率调整能力，从而补偿投影物镜的倍率漂移引起严重的套刻误差。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 投影 物镜 倍率 调整 系统 方法 | ||
【主权项】：
一种投影物镜倍率调整系统，用于光刻设备，所述光刻设备包括掩模、投影物镜以及工件台，其特征在于，所述投影物镜光学系统中还包括一气体密封腔，通过调整所述气体密封腔中混合气体的配比来调整所述混合气体的折射率，从而调整所述投影物镜的倍率；所述气体密封腔位于所述投影物镜光学系统中气体折射率改变对倍率灵敏度高且对成像质量影响较小的光学镜片之间。
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