[发明专利]磁聚焦线圈及其阵列的设置方法在审

专利信息
申请号: 201410834549.0 申请日: 2014-12-30
公开(公告)号: CN104700974A 公开(公告)日: 2015-06-10
发明(设计)人: 王观军;陈健飞;王安泉;冯国栋;杨勇;孙东;王春光;江文军 申请(专利权)人: 中国石油化工股份有限公司;中国石油化工股份有限公司胜利油田分公司技术检测中心
主分类号: H01F5/00 分类号: H01F5/00;H01F41/06;G01N27/82
代理公司: 济南智圆行方专利代理事务所(普通合伙企业) 37231 代理人: 杜文娟
地址: 100728 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种磁聚焦线圈及其阵列的设置方法,属于磁聚焦技术领域。提供一种聚焦性能有很大的改善,结构简单易制作,且测量时简便容易,不存在测量盲区的磁聚焦线圈及其阵列的设置方法。其特征是由至少两个处于同心圆形状分布的线圈组,依次套叠在一起,两个线圈的一侧端部共处于同一平面中,且两个线圈半径不同,线圈1的半径r1=1cm,线圈2的半径r2的取值范围在(1,2]cm,且0.1cm个单位增加其半径,即是线圈2与线圈1满足半径比范围在(1,2]。本发明的聚焦性较单个线圈或现有技术中的8字形线圈和一些线圈阵列,聚焦效果得到了极大的改善;本发明可比例性的放大或缩小,应用范围极广;例如:大的可应用到石油勘测领域,而小的可应用到医疗器械领域等等。
搜索关键词: 聚焦 线圈 及其 阵列 设置 方法
【主权项】:
一种磁聚焦线圈阵列的设置方法,其特征是发射线圈阵列至少由两个处于同心圆形状分布的线圈组,依次套叠在一起,两个线圈的一侧端部共处于同一平面中,主发射圈半径最小为r1,辅助发射圈紧靠主发射圈,且比主发射圈尺寸大,半径为r2,且r2/r1的比值取值在(1,2]区间内。
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