[发明专利]粘合带粘贴方法和粘合带粘贴装置有效
申请号: | 201410834919.0 | 申请日: | 2014-12-26 |
公开(公告)号: | CN104752280B | 公开(公告)日: | 2019-03-08 |
发明(设计)人: | 村山拓;金岛安治 | 申请(专利权)人: | 日东电工株式会社 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/683 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;张会华 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: | 本发明提供粘合带粘贴方法和粘合带粘贴装置。将宽度比腔室的内径大的粘合带粘贴于用于构成腔室的成对的上罩和下罩中的一个罩上的用于成对的上罩和下罩接合的接合部,在夹着粘合带地形成腔室之后,利用加热器对粘合带进行预加热。之后,使晶圆接近粘合带的粘合面并与粘合带的粘合面相对,一边使容纳并保持晶圆的下罩的空间的气压低于上罩的空间的气压一边将粘合带粘贴于晶圆。利用加压构件的平坦面来对粘贴于晶圆的电路形成面的粘合带的表面进行加压而使其平坦化。 | ||
搜索关键词: | 粘合 粘贴 方法 装置 | ||
【主权项】:
1.一种粘合带粘贴方法,其是将粘合带粘贴于半导体晶圆的电路形成面的粘合带粘贴方法,其特征在于,该粘合带粘贴方法包括以下过程:第1粘贴过程,在该第1粘贴过程中,将宽度比腔室的内径大的所述粘合带粘贴于用于构成该腔室的成对的第1罩和第2罩中的一个罩上的用于所述成对的第1罩和第2罩接合的接合部;预加热过程,在该预加热过程中,在夹着所述粘合带地形成腔室之后,利用加热器对粘合带进行预加热;第2粘贴过程,在该第2粘贴过程中,使半导体晶圆接近所述粘合带的粘合面并与所述粘合带的粘合面相对,一边使容纳并保持该半导体晶圆的第2罩的空间的气压低于第1罩的空间的气压一边将该粘合带粘贴于半导体晶圆;以及加压过程,在该加压过程中,利用加压构件的平坦面来对粘贴于所述半导体晶圆的电路形成面的粘合带的表面进行加压而使其平坦化,在所述预加热过程中,使埋设有加热器的加压构件的加压面抵接于粘合带来进行预加热。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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