[发明专利]铜表面化学镀镍用超低浓度离子钯活化液及工艺在审
申请号: | 201410835759.1 | 申请日: | 2014-12-27 |
公开(公告)号: | CN104593751A | 公开(公告)日: | 2015-05-06 |
发明(设计)人: | 范小玲;李冰;宗高亮;李宁;刘松;孔德龙 | 申请(专利权)人: | 广东致卓精密金属科技有限公司 |
主分类号: | C23C18/18 | 分类号: | C23C18/18;C23C18/32 |
代理公司: | 佛山东平知识产权事务所(普通合伙) 44307 | 代理人: | 詹仲国 |
地址: | 528200 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明公开了一种铜表面化学镀镍用超低浓度离子钯活化液及工艺,其特征在于,镀液原料组成包括:钯盐2~10ppm(钯离子浓度)、硫酸或盐酸0.5~10ml/L、表面活性剂0.01~4g/L、加速剂0.1~10g/L、稳定剂1~50mg/L。本发明通过使用加速剂,能够在不影响化学镀镍效果的情况下显著降低活化液使用的钯离子浓度,施工工艺方便易行。 | ||
搜索关键词: | 表面 化学 镀镍用超低 浓度 离子 活化 工艺 | ||
【主权项】:
一种铜表面化学镀镍用超低浓度离子钯活化液,其特征在于,原料组成包括:钯盐、硫酸 0.5~10ml/L、 表面活性剂 0.01~4g/L、加速剂 0.1~10g/L、 稳定剂 1~50mg/L,钯盐中钯离子浓度控制在2~10ppm。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
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