[发明专利]一种四氯虫酰胺晶体及其制备方法在审
申请号: | 201410836032.5 | 申请日: | 2014-12-29 |
公开(公告)号: | CN105801558A | 公开(公告)日: | 2016-07-27 |
发明(设计)人: | 程春生;李全国;杨兆国;李斌;李子亮;魏振云 | 申请(专利权)人: | 沈阳科创化学品有限公司 |
主分类号: | C07D401/04 | 分类号: | C07D401/04;A01P7/00;A01P1/00;A01P3/00 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 丁业平;金小芳 |
地址: | 110144 辽宁省沈阳*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明涉及一种四氯虫酰胺晶体及其制备方法,在X射线粉末衍射中,所述四氯虫酰胺晶体在衍射角2θ为7.62°±0.2°、9.19°±0.2°、16.02°±0.2°、16.83°±0.2°、18.13°±0.2°、20.00°±0.2°、20.87°±0.2°、21.49°±0.2°、23.14°±0.2°、25.80°±0.2°、27.05°±0.2°、28.14°±0.2°、29.51°±0.2°、31.80°±0.2°、32.50°±0.2°、35.10°±0.2°、36.58°±0.2°及45.50°±0.2°的位置处显示出特征峰。 | ||
搜索关键词: | 一种 四氯虫酰胺 晶体 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种四氯虫酰胺晶体,其特征在于,在X射线粉末衍射中,所述晶体在衍射角2θ为7.62°±0.2°、9.19°±0.2°、16.02°±0.2°、16.83°±0.2°、18.13°±0.2°、20.00°±0.2°、20.87°±0.2°、21.49°±0.2°、23.14°±0.2°、25.80°±0.2°、27.05°±0.2°、28.14°±0.2°、29.51°±0.2°、31.80°±0.2°、32.50°±0.2°、35.10°±0.2°、36.58°±0.2°及45.50°±0.2°的位置处显示出特征峰。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于沈阳科创化学品有限公司,未经沈阳科创化学品有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201410836032.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:CMAS抗性热障涂层
- 下一篇:新型苯并吡喃激酶调节剂