[发明专利]一种绝对密闭的等离子体表面处理装置

摘要

本发明公开了一种绝对密闭的等离子体表面处理装置，包括电源组、电机马达组、供气源以及密闭的外壳，其中，外壳内设有等离子体放电处理室，等离子体放电处理室一侧设有放卷轴，另一侧设有收卷轴；等离子体放电处理室内设有若干组被硅胶管包覆的金属管高压电极，以及位于金属管高压电极一侧的、与金属管高压电极平行的地电极；等离子体放电处理室顶部设有进出布口，进出布口上方设有排气罩；等离子体放电处理室底部设有若干进气孔。本发明的绝对密闭的等离子体表面处理装置，主要用途是：对薄膜和各种面料的表面进行等离子体的放电的深度处理，改变其表面能，接枝功能基团，提高粘合性能，具有可以实现深度处理，实现连续生产等优点。

主权项

一种绝对密闭的等离子体表面处理装置，其特征在于：包括电源组、电机马达组、供气源以及密闭的外壳，其中，外壳内设有等离子体放电处理室，等离子体放电处理室一侧设有放卷轴，另一侧设有收卷轴；等离子体放电处理室内设有若干组被硅胶管包覆的金属管高压电极，以及位于金属管高压电极一侧的、与金属管高压电极平行的地电极，金属管高压电极以及地电极分别通过电缆线与电源组连接；等离子体放电处理室顶部设有进出布口，进出布口上方设有排气罩；进出布口的外侧及内侧设有用于引导薄膜或面料的导向辊；等离子体放电处理室底部设有若干进气孔，供气源通过管道与进气孔连通，管道上设有控制阀。