[发明专利]可光降解型异氰酸酯预聚物的制备无效
| 申请号： | 201410837778.8 | 申请日： | 2014-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN104529825A | 公开（公告）日： | 2015-04-22 |
| 发明（设计）人： | 马贵平;方大为;聂俊 | 申请（专利权）人： | 北京化工大学常州先进材料研究院 |
| 主分类号： | C07C269/02 | 分类号： | C07C269/02;C07C271/28;C07C271/24;C07C271/20 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 213164 江苏省常州市武进区常武中路18号*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公示了一种含双异氰酸根的可光降解型的异氰酸酯预聚物其制备方法。选用端羟基的光引发剂2-羟基-2-甲基-对羟乙基醚基苯基丙酮-1和多异氰酸酯如异氟尔酮二异氰酸酯、六亚甲基二异氰酸酯等制备预聚物。多异氰酸酯的量是光引发剂量得两倍，最终形成的预聚物分子仍含有两个异氰酸根，并且可光降解。本发明的制备过程不仅成本低，反应步骤少，制备周期短，而且操作简便，易于控制，因而更适于工业生产。 | ||
| 搜索关键词： | 光降解 氰酸 酯预聚物 制备 | ||
【主权项】：
2‑羟基‑2‑甲基‑对羟乙基醚基苯基丙酮‑1光引发剂与MDI、间XDI、对XDI、HDI、IPDI、HMDI的产物可光降解型异氰酸酯预聚物，其结构式如下：![]()
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