[发明专利]包括用于沉浸光刻装置的真空清除的环境系统

摘要

本发明涉及包括用于沉浸光刻装置的真空清除的环境系统。一种用于控制光学组件(16)与器件(30)之间间隙(246)中环境的环境系统(26)包括流体屏障(254)和沉浸流体系统(252)。流体屏障位于器件附近。沉浸流体系统输送充满间隙的沉浸流体。沉浸流体系统收集直接位于流体屏障与器件之间的沉浸流体。流体屏障可以包括位于器件附近的清除入口，并且沉浸流体系统可以包括与清除入口流体连通的低压源。流体屏障限制沉浸流体的任何蒸汽并且防止它干扰测量系统。另外，环境系统可以包括在流体屏障与器件之间引导轴承流体以相对于器件支撑流体屏障的轴承流体源。

主权项

一种将图像传送到工件的曝光装置，所述工件包括工件表面，该曝光装置包括：保持所述工件的载物台，所述载物台包括与所述工件的所述工件表面近似处于相同平面中的载物台表面；光学组件，所述光学组件与至少所述工件之间存在间隙；控制所述间隙中环境的环境系统，该环境系统包括具有面向至少所述工件的第一表面的环绕组件，在所述环绕组件内输送用于充满所述间隙的沉浸流体的沉浸流体系统，以及位于所述环绕组件的所述第一表面上以抑制所述沉浸流体泄漏的入口部分，使得所述工件表面的一部分被所述沉浸流体所覆盖；其中所述第一表面与至少所述工件之间的距离比所述光学组件的端面与至少所述工件之间的距离短，以及其中所述环绕组件是可移动的。