[发明专利]激光沉积薄膜制备装置

摘要

本发明涉及激光加工，提供一种激光沉积薄膜制备装置，包括激光发射器以及腔室，于腔室内设置有靶材以及沉积形成薄膜的基底，于靶材与基底之间沿靶材至基底的方向依次间隔设置有用于阻挡羽辉内的大颗粒的至少两层栅栏结构，每一栅栏结构均包括用于阻挡羽辉大颗粒的挡板以及开设于挡板上且间隔设置的若干栅栏口，且相邻两栅栏结构的各栅栏口均错开设置。本发明的薄膜制备装置中，栅栏结构可以起到过滤羽辉中直线移动大颗粒的作用，同时羽辉中的离子以及原子在一定气压下可以通过扩散的方式依次穿过各栅栏结构后沉积于基底上并形成所需薄膜，避免了所制备的薄膜被颗粒轰击而破坏,以及消除颗粒嵌设于薄膜中，所制备薄膜表面光滑，粗糙度低。

主权项

一种激光沉积薄膜制备装置，包括用于发射脉冲激光束的激光发射器以及可充入气体以维持压强恒定的腔室，于所述腔室内设置有供所述激光发射器发出的激光束轰击的靶材以及用于接收所述靶材激光轰击后产生的等离子体羽辉以沉积形成薄膜的基底，其特征在于：于所述靶材与所述基底之间沿所述靶材至所述基底的方向依次间隔设置有用于阻挡所述羽辉内的大颗粒的至少两层栅栏结构，每一所述栅栏结构均包括用于阻挡所述羽辉大颗粒的挡板以及开设于所述挡板上且间隔设置用于供所述羽辉中离子以及原子通过的若干栅栏口，且相邻两所述栅栏结构的各所述栅栏口均错开设置。