[发明专利]一种刀闸微型阀装置有效

专利信息
申请号: 201410841856.1 申请日: 2014-12-30
公开(公告)号: CN105805411B 公开(公告)日: 2019-02-01
发明(设计)人: 邓宁;李勇俊;张胜昌;段飞 申请(专利权)人: 浙江盾安人工环境股份有限公司
主分类号: F16K99/00 分类号: F16K99/00
代理公司: 杭州华鼎知识产权代理事务所(普通合伙) 33217 代理人: 秦晓刚
地址: 311835 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明公开了一种新型刀闸微型阀装置,由上下两层硅片键合而成,第一层硅片设有上下贯穿的电极口,第一层硅片底面设有空腔,所述空腔内设有移动构件,所述移动构件设有闸门和压电致动部。第二层硅片上设有上下贯通的流体入口,流体出口和控制端口,第二层硅片顶面设有凹槽,所述凹槽内设有流体通道。在第一层硅片和第二层硅片键合后,第一层硅片的空腔与第二层硅片上的流体入口、流体出口、控制端口、凹槽以及第一层硅片的底面和第二层硅片的顶面,组成闸微阀内的流体的密闭腔室。本发明将闸门和流体通道分别设计在两层不同的硅片上,提升了结构的抗干扰能力;再通过内部密闭腔室的形成,实现了微阀的低泄露要求。
搜索关键词: 一种 新型 微型 装置
【主权项】:
1.一种刀闸微阀装置,由上下两层硅片键合而成,其特征在于:第一层硅片设有上下贯穿的电极口,第一层硅片底面设有空腔,所述空腔内设有移动构件,所述移动构件设有闸门和压电致动部,所述移动构件包括第一移动构件和第二移动构件;第二层硅片设有上下贯通的流体入口,流体出口和控制端口,第二层硅片顶面设有凹槽,所述凹槽内设有流体通道,所述流体通道包括入流通道和出流通道,所述入流通道一端为流体入口,另一端为受第一移动构件上第一闸门控制的第一流体通口,所述出流通道一端为流体出口,另一端为受第二移动构件上第二闸门控制的第二流体通口,在第一层硅片和第二层硅片键合后,第一层硅片的空腔与第二层硅片的流体入口、流体出口、控制端口、凹槽以及第一层硅片的底面和第二层硅片的顶面,组成闸微阀内的流体的密闭腔室。
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