[发明专利]一种高效率易清洗的硅片清洗剂

摘要

本发明公开了新型硅片清洗液，本发明一种高效率易清洗的硅片清洗剂，其组成成分包括（按重量份数计）:二醇醚20-50份、二醇酯7-12份、油酸羟乙基咪唑啉7-19份、十二烷基苯磺酸钠19-21份、磷酸氢钾15-27份、丙二醇3-9份、氟化铵7-10份、一号溶剂7-13份、二号溶剂3-6份、三号溶剂20-33份。可有效提高对硅片的清洁程度，配方简单易于操作，对环境无不利影响，去污力强，高效且易清洗，提高了硅片的清洗速度与耐用性能，有利于提高硅片清洗的清洁率，使硅片清洁率达到99.99％。

主权项

一种高效率易清洗的硅片清洗剂，其特征在于，其组成成分包括（按重量份数计）:二醇醚                  20‑50份二醇酯                   7‑12份油酸羟乙基咪唑啉         7‑19份十二烷基苯磺酸钠         19‑21份磷酸氢钾                 15‑27份丙二醇                    3‑9份氟化铵                    7‑10份一号溶剂                  7‑13份二号溶剂                  3‑6份三号溶剂                  20‑33份。