[发明专利]基于点源效率函数的氙气源虚拟点源刻度装置及方法有效
申请号: | 201410850162.4 | 申请日: | 2014-12-30 |
公开(公告)号: | CN104483698A | 公开(公告)日: | 2015-04-01 |
发明(设计)人: | 田自宁;欧阳晓平;张显鹏;刘林月;陈亮;刘金良;金鹏 | 申请(专利权)人: | 西北核技术研究所 |
主分类号: | G01T1/167 | 分类号: | G01T1/167 |
代理公司: | 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 | 代理人: | 王少文 |
地址: | 71002*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本发明提供一种基于点源效率函数的氙气源虚拟点源刻度装置,包括放射性氙气体体源、标准混合点源、探测器;所述放射性氙气体体源位于探测器的正上方不同高度;所述标准混合点源位于探测器的正上方相应高度;所述标准混合点源发射射线能量必须覆盖或接近放射性氙气体体源发射射线能量。本发明选用长半衰期的170T m点源放置在短半衰期的133Xe及其同位素气体体源的虚拟点位置来进行模拟刻度放射性133Xe气体源的效率,可以解决实际工作中有些标准133Xe及其同位素半衰期较短而无法使用较长时间的问题。 | ||
搜索关键词: | 基于 效率 函数 氙气 虚拟 刻度 装置 方法 | ||
【主权项】:
一种基于点源效率函数的氙气源虚拟点源刻度装置,其特征在于:包括放射性氙气体体源(1)、标准混合点源(2)、探测器(3);所述放射性氙气体体源(1)位于探测器(3)的正上方不同高度;所述标准混合点源(2)位于探测器(3)的正上方相应高度;所述标准混合点源(2)发射射线能量必须覆盖或接近放射性氙气体体源(1)发射射线能量。
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