[发明专利]光电二极管、紫外探测器集成电路及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201410852685.2 申请日: 2014-12-31
公开(公告)号: CN104505410A 公开(公告)日: 2015-04-08
发明(设计)人: 周健;胡铁刚 申请(专利权)人: 杭州士兰微电子股份有限公司
主分类号: H01L31/0352 分类号: H01L31/0352;H01L27/144;H01L31/18
代理公司: 北京成创同维知识产权代理有限公司11449 代理人: 刘锋;蔡纯
地址: 310012*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 公开了一种光电二极管、紫外探测器集成电路及其制造方法。在现有的可见光光电二极管的第一半导体区域的受光表面一侧形成下凹结构从而使得其对紫外线敏感。由此,可以基于标准半导体工艺(例如CMOS工艺)制造紫外探测光电二极管,降低了生产成本。并且,由于可以采用标准半导体工艺制造,可以与其它的电路元件集成制造紫外探测器集成电路。
搜索关键词: 光电二极管 紫外 探测器 集成电路 及其 制造 方法
【主权项】:
一种光电二极管,包括硅基底;第一半导体区域,具有第一导电类型,形成在所述硅基底中,在受光表面一侧具有多个下凹结构。
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