[发明专利]近中红外光学波段大角度入射多波段高反射膜的制备方法在审
申请号: | 201410853658.7 | 申请日: | 2014-12-31 |
公开(公告)号: | CN104593734A | 公开(公告)日: | 2015-05-06 |
发明(设计)人: | 王平秋;张玉东;杨柳;于清;代礼密;林莉;吉林;陈蔚 | 申请(专利权)人: | 西南技术物理研究所 |
主分类号: | C23C14/30 | 分类号: | C23C14/30;C23C14/08;C23C14/06;C23C14/58;G02B1/10 |
代理公司: | 成飞(集团)公司专利中心 51121 | 代理人: | 郭纯武 |
地址: | 610041 四川*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明公开的一种近中红外光学波段大角度入射多波段高反射膜的制备方法,利用本方法可以实现近中红外光学波段宽范围高质量大角度入射的多波段高反射膜的设计和镀制,提高膜层的牢固性能力,及野外恶劣环境的使用寿命。本发明通过下述技术方案予以实现:以石英玻璃为基底,用膜系设计公式G/…/Air,计算每层膜的光学厚度值;用离子源在镀膜前和镀膜过程中轰击基底;将ZnS和Al2O3两种膜料放入旋转电子枪蒸发源坩锅中,根据膜系公式顺序和厚度值用光学真空镀膜机完成镀膜。本发明解决了在石英玻璃基底上使用非金属和非半导体膜层材料镀膜不牢固和较难达到大角度入射多波段高反射率的工艺难题。本发明具有很高膜层牢固度和大角度多波段具有高反射率的高反射膜。 | ||
搜索关键词: | 红外 光学 波段 角度 入射 反射 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种近中红外光学波段大角度入射多波段高反射膜的制备方法,其特征在于包括以下镀制工艺步骤:(1)以G为石英玻璃材料为基底,L为Al2O3膜料,H为ZnS膜料,Air为折射率NA=1的空气介质,膜系参考波长λc=800nm;以隔绝石英玻璃材料表面与空气水分接触的硬质防潮膜层,采用膜系设计公式:G/0.2L1.3046H1.5386L1.3867H1.4427L1.4299H1.489L1.334H1.5283L1.4085H1.3947L1.4859H1.4534L1.3168H1.625L1.292H1.4612L4.2291H7.2759L4.2232H4.5239L4.307H7.1105L4.4724H5.6527L4.7646H6.5785L/Air计算每层膜的光学厚度值,并按光学厚度值顺序列表格,将上述H、L膜料依次放入镀膜机真空室的电子枪蒸发源坩锅内备用;;(2)在镀膜基底超声波清洗工艺中,用清洗液清洁被镀基底,吹干,放入真空室抽真空待镀;(3)加温烘烤基底,在真空环境下,在30℃~200℃范围内逐渐升温烘烤;(4)在光学膜层粘接打底工艺和应力匹配工艺中,根据前述膜系设计公式计算出的各层膜的光学厚度值和表格顺序,将Al2O3和ZnS两种膜料依次放入旋转速率为100~120转/分钟的旋转电子枪蒸发源坩锅中,然后用光学真空镀膜机按所述步骤(1)的公式列表顺序和厚度值完成镀膜;(5)在离子源辅助蒸镀工艺中,用离子源在镀膜前和镀膜过程中轰击基底,一直让其产生的离子束轰击基底到镀膜完成;(6)在高低温退火工艺中,将镀完膜的球罩在真空室自然冷却到室温后进行退火处理。
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