[发明专利]用于套刻误差检测的装置和方法有效
| 申请号： | 201410855716.X | 申请日： | 2014-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN105807573B | 公开（公告）日： | 2017-12-29 |
| 发明（设计）人： | 彭博方;陆海亮;王帆 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)31237 | 代理人： | 屈蘅,李时云 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于套刻误差检测的装置和方法，该装置包括光源，用于产生测量光；照明系统，将测量光入射到物镜中；物镜，用于将测量光入射到套刻标记上，同时收集从套刻标记衍射的各主极大衍射光，并将各主极大衍射光汇聚到物镜光瞳面；探测器，位于物镜光瞳面，用于探测各主极大衍射光在探测器上的位置以获取所述套刻误差。本发明采用衍射光的位置信息进行套刻误差的测量，测量信号不受照明均匀性、透过率均匀性等影响；测量标记尺寸更小，周期数小于20，所占用有效曝光区域更小，从而减少了套刻标记的成本；可以实现场内测量，满足更高节点对套刻误差的测量精度的需求。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 误差 检测 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种用于套刻误差检测的装置，其特征在于，包括：光源，用于产生测量光；照明系统，将测量光入射到物镜中；物镜，用于将测量光入射到套刻标记上，同时收集从套刻标记衍射的各主极大衍射光，并将各主极大衍射光汇聚到物镜光瞳面；探测器，位于物镜光瞳面，用于探测各主极大衍射光在探测器上的位置以获取所述套刻误差；所述套刻标记的周期数小于或等于20。
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