[发明专利]用于电镀液的添加剂在审
申请号: | 201410858260.2 | 申请日: | 2014-12-08 |
公开(公告)号: | CN104694981A | 公开(公告)日: | 2015-06-10 |
发明(设计)人: | J·科茹霍;Z·I·尼亚齐比托瓦;M·A·热兹尼克 | 申请(专利权)人: | 罗门哈斯电子材料有限公司 |
主分类号: | C25D3/02 | 分类号: | C25D3/02 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 陈哲锋 |
地址: | 美国马*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 用于电镀液的添加剂。提供了一种化合物,包含一种或多种式(I)化合物与一种或多种式(II)化合物的反应产物。在金属电镀液中包括卤化嘧啶与亲核连接单元的反应产物,用来提供良好的均镀能力。电镀液可用来在印刷电路板和半导体上电镀金属,例如铜、锡及其合金,以及填充过孔和通孔。 | ||
搜索关键词: | 用于 电镀 添加剂 | ||
【主权项】:
一种化合物,包含一种或多种下式化合物:其中R1、R2、R3和R4相同或不同,并且为氢;卤素;直链或支化、取代或未取代的(C1‑C10)烷基;‑NR5R6,其中R5和R6相同或不同,并且为氢或直链或支化、取代或未取代的(C1‑C10)烷基;(C1‑C10)烷氧基;硫醇;巯基(C1‑C10)烷基;‑NO2;‑NO;硝基(C1‑C10)烷基;或R3和R4可以与它们的所有碳原子一起形成取代或未取代的芳基;并且前提是R1、R2、R3和R4的至少一个是卤素;与一种或多种下式化合物的反应产物,Y1‑R‑Y2(II)其中Y1和Y2相同或不同,并且为氢、‑NH2、‑SH、‑OH或下式基团:其中A为取代或未取代的(C5‑C12)环烷基或(C5‑C12)芳基,以及R为下式基团:其中Y1和Y2均为氢,以及B为取代或未取代的(C5‑C12)环烷基或(C5‑C12)芳基,或R为下式基团:或R为下式基团:以及其中Z1和Z2可相同或不同,并且选自:其中D为取代或未取代的(C5‑C12)环烷基或(C5‑C12)芳基,R’为下式基团:其中R7至R20相同或不同,并且选自氢、直链或支化的(C1‑C5)烷基、直链或支化的氨基(C1‑C5)烷基、羟基、直链或支化的羟基(C1‑C5)烷基;R1’至R7’相同或不同,并且选自氢、直链或支化的(C1‑C5)烷基、羟基、直链或支化的羟基(C1‑C5)烷基以及直链或支化的氨基(C1‑C5)烷基;R8’和R9’相同或不同,并且选自氢、直链或支化的(C1‑C5)烷基、羟基、羟基(C1‑C5)烷基以及下式基团:其中R10’至R15’相同或不同,并且选自氢和直链或支化的(C1‑C5)烷基,Y3为‑NH2、‑SH或‑OH;a、b、c、d、e、n和q为1‑20的整数以及r为1‑10。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于罗门哈斯电子材料有限公司;,未经罗门哈斯电子材料有限公司;许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201410858260.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。