[发明专利]用于纳米光刻的有机底部抗反射涂料组合物

摘要

提供了一种抗反射涂料组合物。本发明的抗反射涂料组合物可以用于防止在热固化过程中抗反射涂层在基底的图案的角落处撕裂的回拖现象，并且改善了图案的填隙特性，这是因为组合物中交联剂连接到聚合物并且组合物中的低分子量交联剂的含量被最小化以调整热固化起始温度。

主权项

1.一种形成光刻图案的方法，其包括：(a)提供基底，所述基底包括在其表面的一层或多层待图案化的层；(b)在所述一层或多层待图案化的层上形成抗反射涂料组合物的涂层，所述抗反射涂料组合物包括：(i)聚合物，所述聚合物包括(a‑1)至少一个衍生自包含芳基的化合物且构成所述聚合物主链的单元；和(a‑2)衍生自胺交联剂且连接到所述主链上的单元，其中未连接到所述聚合物的主链上的交联剂的含量为至少0.001wt％且小于或等于5wt％，以所述组合物中的固体物的总重量为基准；和(ii)溶剂，(c)在所述抗反射涂层上施加光致抗蚀剂组合物层；(d)将所述光致抗蚀剂组合物层通过掩模图案曝光于光化辐射；和(e)向所述光致抗蚀剂组合物层施加显影剂以清除部分光致抗蚀剂层，形成光致抗蚀剂图案。