[实用新型]一种防止硅基探测器荧光材料受潮降解的阻隔膜有效
| 申请号： | 201420000653.5 | 申请日： | 2014-01-02 |
| 公开（公告）号： | CN203651096U | 公开（公告）日： | 2014-06-18 |
| 发明（设计）人： | 崔潇;陶春先;何梁;洪瑞金;张大伟 | 申请（专利权）人： | 上海理工大学 |
| 主分类号： | B32B9/04 | 分类号： | B32B9/04;B32B33/00 |
| 代理公司： | 上海申汇专利代理有限公司 31001 | 代理人： | 吴宝根 |
| 地址： | 200093 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种防止硅基探测器荧光材料受潮降解的阻隔膜，包括由下到上贴合的底部阻隔膜、内层阻隔膜、顶部阻隔膜三层隔膜，内层阻隔膜内包裹着荧光材料，底部阻隔膜和顶部阻隔膜均由高、低折射率介质膜交替组合而成，内层阻隔膜为高折射率介质膜。荧光层完全处在阻隔膜的保护之内，防潮并显著地提高了荧光材料的工作寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 防止 探测器 荧光 材料 受潮 降解 阻隔 | ||
【主权项】：
一种防止硅基探测器荧光材料受潮降解的阻隔膜，其特征在于，包括由下到上贴合的底部阻隔膜（3）、内层阻隔膜（7）、顶部阻隔膜（2）三层隔膜，内层阻隔膜（7）内包裹着荧光材料（1），底部阻隔膜（3）和顶部阻隔膜（2）均由高、低折射率介质膜交替组合而成，内层阻隔膜（7）为高折射率介质膜。
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