[实用新型]清模装置有效
申请号: | 201420001528.6 | 申请日: | 2014-01-02 |
公开(公告)号: | CN203725436U | 公开(公告)日: | 2014-07-23 |
发明(设计)人: | 蔡清华;陈政哲 | 申请(专利权)人: | 镭射谷科技股份有限公司 |
主分类号: | B08B7/00 | 分类号: | B08B7/00;B29C33/72 |
代理公司: | 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 | 代理人: | 孙皓晨;李林 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本实用新型提供一种清模装置,其包括一基座、一模具固定单元、一支撑单元以及一激光系统。模具固定单元设置于基座上,其中模具固定单元具有至少一加热器。支撑单元设置于基座上。激光系统的一端设置并连接于支撑单元上,激光系统还具有一激光源、一振镜及一场镜。振镜耦接于激光源,场镜耦接于振镜。其中,激光源发射一激光光束至振镜作二维光路调整并入射至场镜,再经由场镜将该激光光束聚焦且入射于模具固定单元的范围内。 | ||
搜索关键词: | 装置 | ||
【主权项】:
一种清模装置,其特征在于,包括:一基座;一模具固定单元,其设置于该基座上,其中该模具固定单元具有至少一加热器;一支撑单元,其设置于该基座上;以及一激光系统,其一端设置并连接于该支撑单元上,该激光系统还具有:一激光源、一振镜以及一场镜;该振镜耦接于该激光源;该场镜耦接于该振镜;其中,该激光源能够发射一激光光束至该振镜作二维光路调整并入射至该场镜,该场镜能够将该激光光束聚焦且入射于该模具固定单元的范围内。
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