[实用新型]双极栅低电压功率器件用外延片有效
申请号: | 201420047837.7 | 申请日: | 2014-01-24 |
公开(公告)号: | CN203746859U | 公开(公告)日: | 2014-07-30 |
发明(设计)人: | 邹崇生 | 申请(专利权)人: | 上海晶盟硅材料有限公司 |
主分类号: | H01L29/06 | 分类号: | H01L29/06 |
代理公司: | 上海脱颖律师事务所 31259 | 代理人: | 李强 |
地址: | 201707 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型提供一种双极栅低电压功率器件用外延片,所述双极栅低电压功率器件用外延片的材质为硅,所述双极栅低电压功率器件用外延片为层状结构,自下至上依次为基板、第一外延层和第二外延层。该双极栅低电压功率器件用外延片成功的克服了基板的自掺杂效应导致外延层的电阻率均匀性变差以及基板-外延过渡区变宽的缺陷,实现了外延层和衬底的低能耗。 | ||
搜索关键词: | 双极栅低 电压 功率 器件 外延 | ||
【主权项】:
一种双极栅低电压功率器件用外延片,其特征在于,所述双极栅低电压功率器件用外延片的材质为硅,所述双极栅低电压功率器件用外延片为层状结构,自下至上依次为基板(3)、第一外延层(1)和第二外延层(2)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海晶盟硅材料有限公司,未经上海晶盟硅材料有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201420047837.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类