[实用新型]一种激光退火设备有效
| 申请号： | 201420050789.7 | 申请日： | 2014-01-26 |
| 公开（公告）号： | CN203690350U | 公开（公告）日： | 2014-07-02 |
| 发明（设计）人： | 田雪雁 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L51/56 | 分类号： | H01L51/56;B23K26/00 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 黄志华 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及激光退火技术领域，公开了一种激光退火设备，所述激光退火设备包括：退火室、氧化室、湿法刻蚀室和传送装置，其中：所述退火室内设置有至少一个氧气分析计；具有非晶硅膜的基板经所述传送装置传送依次通过所述退火室、氧化室和湿法刻蚀室。在本实用新型技术方案中，由于具有非晶硅膜的基板经过退火室退火形成多晶硅膜后还需在氧化室内进行氧化以及在湿法刻蚀室内进行湿法刻蚀，因此，保证了即使氧气含量超标下生产的多晶硅膜的表面粗糙度也能符合标准，进而提高了产品的良率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 激光 退火 设备 | ||
【主权项】：
一种激光退火设备，其特征在于，包括退火室、氧化室、湿法刻蚀室和传送装置，其中：所述退火室内设置有至少一个氧气分析计；具有非晶硅膜的基板经所述传送装置传送依次通过所述退火室、氧化室和湿法刻蚀室。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件；专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的；具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射；专门适用于将这些辐射能转换为电能，或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的，如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择
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