[实用新型]带有埋容的SIM卡及其移动终端有效
申请号: | 201420078708.4 | 申请日: | 2014-02-24 |
公开(公告)号: | CN203746105U | 公开(公告)日: | 2014-07-30 |
发明(设计)人: | 石彬 | 申请(专利权)人: | 联想(北京)有限公司 |
主分类号: | G06K19/077 | 分类号: | G06K19/077 |
代理公司: | 北京鼎佳达知识产权代理事务所(普通合伙) 11348 | 代理人: | 王伟锋;刘铁生 |
地址: | 100085 北京市*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种带有埋容的SIM卡及其移动终端,该带有埋容的SIM卡,包括:第一铜箔层、第二铜箔层和介质层,第一铜箔层位于所述介质层上表面,第二铜箔层位于所述介质层下表面;集成电路,布设在所述第一铜箔层上,且集成电路的管脚周围的第一铜箔层、第二铜箔层和介质层设置有通孔;埋容,设置在所述通孔中,与所述集成电路管脚连接。本实用新型中,集成电路的电源和电源地通过埋容进行滤波,由于该埋容的容值比较大,可以更好滤除SIM卡信号中低频噪声部分,强化了滤波效果,从而使SIM卡信号减小对无线信号的干扰,提高了无线信号接收性能。 | ||
搜索关键词: | 带有 sim 及其 移动 终端 | ||
【主权项】:
一种带有埋容的SIM卡,其特征在于,包括:第一铜箔层、第二铜箔层和介质层,所述第一铜箔层位于所述介质层上表面,所述第二铜箔层位于所述介质层下表面;集成电路,布设在所述第一铜箔层上,且所述集成电路的管脚周围的第一铜箔层、第二铜箔层和介质层设置有通孔;埋容,设置在所述通孔中,与所述集成电路管脚连接。
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