[实用新型]一种用于真空镀膜设备的衬底基座有效
申请号: | 201420106671.1 | 申请日: | 2014-03-10 |
公开(公告)号: | CN203768452U | 公开(公告)日: | 2014-08-13 |
发明(设计)人: | 黄延伟 | 申请(专利权)人: | 杭州电子科技大学 |
主分类号: | C23C14/50 | 分类号: | C23C14/50 |
代理公司: | 杭州求是专利事务所有限公司 33200 | 代理人: | 杜军 |
地址: | 310018 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种用于真空镀膜设备的衬底基座。本实用新型由带沟槽的衬底面板、螺丝、螺母和金属薄垫片组成。该衬底基座由带沟槽的衬底面板、螺丝、螺母和金属薄垫片组成;衬底面板的沟槽轨道至少有两条,且轨道之间的距离至少为3cm,沟槽轨道的宽度能容下螺丝,且螺丝杆可以在沟槽中自由移动,螺丝杆与螺母配合,螺丝杆上装有可活动的金属薄垫片。本实用新型可根据衬底的面积大小、形状差异进行不同位置的灵活固定,简单方便,尤其对面积较小、数量众多的衬底样品有很好的紧固能力,具有很好的实用性。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 真空镀膜 设备 衬底 基座 | ||
【主权项】:
一种用于真空镀膜设备的衬底基座,其特征在于:该衬底基座由带沟槽的衬底面板、螺丝、螺母和金属薄垫片组成;衬底面板的沟槽轨道至少有两条,且轨道之间的距离至少为3 cm,沟槽轨道的宽度能容下螺丝,且螺丝杆可以在沟槽中自由移动,螺丝杆与螺母配合,螺丝杆上装有可活动的金属薄垫片。
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