[实用新型]真空灭弧室及真空极柱有效
申请号: | 201420111573.7 | 申请日: | 2014-03-12 |
公开(公告)号: | CN203787342U | 公开(公告)日: | 2014-08-20 |
发明(设计)人: | 傅明海;迪特马尔·根奇;翁颖蕾 | 申请(专利权)人: | ABB技术有限公司 |
主分类号: | H01H33/664 | 分类号: | H01H33/664;H01H33/66 |
代理公司: | 北京邦信阳专利商标代理有限公司 11012 | 代理人: | 王昭林;张相升 |
地址: | 瑞士*** | 国省代码: | 瑞士;CH |
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摘要: | 本实用新型公开了一种真空灭弧室(100),包括灭弧室主体(1),所述灭弧室主体(1)的内部形成有真空腔(14),所述灭弧室主体(1)的外表面上包覆有至少一层绝缘套(2)。本实用新型还公开了一种真空极柱(200)。本实用新型提供的真空灭弧室及真空极柱,其结构简单、绝缘效果好,加工工艺简单、操作方便,节约了材料和开模费用,降低了成本。 | ||
搜索关键词: | 真空 灭弧室 | ||
【主权项】:
一种真空灭弧室(100),其特征在于,包括灭弧室主体(1),所述灭弧室主体(1)的内部形成有真空腔(14),所述灭弧室主体(1)的外表面上包覆有至少一层绝缘套(2)。
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