[实用新型]一种晶圆清洗机的烘干机构有效
| 申请号： | 201420147213.2 | 申请日： | 2014-03-28 |
| 公开（公告）号： | CN203731828U | 公开（公告）日： | 2014-07-23 |
| 发明（设计）人： | 陈俊;胡胜 | 申请（专利权）人： | 武汉新芯集成电路制造有限公司 |
| 主分类号： | F26B21/14 | 分类号： | F26B21/14;B08B3/00 |
| 代理公司： | 北京轻创知识产权代理有限公司 11212 | 代理人： | 杨立 |
| 地址： | 430205 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种晶圆清洗机的烘干机构，包括至少一个呈圆柱状的氮气喷嘴，具有一个平面的盛放台和掩板；所述盛放台置于一个平台上；所述掩板的大小不小于盛放台的平面，并且所述掩板平面与盛放台平面形状相似，所述掩板设置于盛放台正上方一定距离处，所述掩板上均匀设置有对应氮气喷嘴个数的通孔，所述通孔的大小与氮气喷嘴相适应；所述每个氮气喷嘴穿透一个通孔，并且所述氮气喷嘴喷出氮气的一端正对盛放台。本实用新型采用掩板遮挡外溢的氮气，确保压缩的氮气能够全部作用在晶圆表面，将其表面的水分带走，一方面实现解决水痕缺陷的效果，另一方面同时实现了能源的节约。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 清洗 烘干 机构 | ||
【主权项】：
一种晶圆清洗机的烘干机构，其特征在于，包括至少一个呈圆柱状的氮气喷嘴（1），具有一个平面的盛放台（2）和掩板（3）；所述盛放台（2）置于一个平台上；所述掩板（3）的大小不小于盛放台的平面，并且所述掩板（3）平面与盛放台平面形状相似，所述掩板（3）设置于盛放台（2）正上方一定距离处，所述掩板（3）上均匀设置有对应氮气喷嘴（1）个数的通孔（4），所述通孔（4）的大小与氮气喷嘴（1）相适应；所述每个氮气喷嘴（1）穿透一个通孔，并且所述氮气喷嘴（1）喷出氮气的一端正对盛放台（2）。
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