[实用新型]一种制备纳米多孔结构薄膜的装置及其应用有效
| 申请号： | 201420149326.6 | 申请日： | 2014-03-28 |
| 公开（公告）号： | CN203855640U | 公开（公告）日： | 2014-10-01 |
| 发明（设计）人： | 周春明;陈伟;管永锋;徐源 | 申请（专利权）人： | 能源X控股有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;H01L31/0216;H01L31/18;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人： | 沈振涛 |
| 地址： | 美国内*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种制备纳米多孔结构薄膜的物理气相沉积装置，包括沉积腔（1）、电压源（2）、磁控管（3）、遮蔽屏（4）、衬底传输轨道（5）、遮蔽屏支撑和控制系统（6）、真空泵（7）、以及设置于磁控管（3）上的溅射靶（8）；所述衬底传输轨道（5）用于负载衬底穿过沉积腔（1）；所述磁控管（3）、遮蔽屏（4）以及衬底传输轨道（5）依次平行设置；该装置通过将遮蔽屏设置于衬底和溅射靶之间，利用遮蔽屏阻断部分沉积粒子流，控制沉积粒子流的沉积方向，从而调节薄膜生长的空隙率，实现薄膜空隙率可控生长。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 制备 纳米 多孔 结构 薄膜 装置 及其 应用 | ||
【主权项】：
一种制备纳米多孔结构薄膜的装置，包括沉积腔（1）、电压源（2）、遮蔽屏支撑和控制装置（6）、真空泵（7）以及依次平行设于沉积腔（1）内的磁控管（3）、遮蔽屏（4）、衬底传输轨道（5）；所述电压源（2）与磁控管（3）连接；所述遮蔽屏（4）与遮蔽屏支撑和控制装置（6）连接；所述真空泵（7）与沉积腔（1）连接；所述磁控管（3）上固定有溅射靶（8）。
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