[实用新型]一种适应性耦合等离子刻蚀机有效
| 申请号： | 201420169755.X | 申请日： | 2014-04-09 |
| 公开（公告）号： | CN203910743U | 公开（公告）日： | 2014-10-29 |
| 发明（设计）人： | 张海洋;张城龙 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（北京）有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01J37/04 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所 31219 | 代理人： | 李仪萍 |
| 地址： | 100176 北京市大兴*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种适应性耦合等离子刻蚀机，所述刻蚀机至少包括：具有反应空间并在反应空间中产生等离子体的反应腔、设置于所述反应腔中且用于支撑所述晶圆的下电极、设置于反应腔上方中心区域的螺旋型线圈组件；所述反应腔的上腔壁由石英窗口和围绕所述石英窗口的第一衬套构成。本实用新型通过设置第一衬套作为反应腔上壁的一部分，减小了下电极和第一衬套之间的距离，一方面可以提高反应腔下部的电子温度，另一方面还可以提高反应腔边缘的电子温度，使整个反应腔中的电子温度分布更加均匀，降低晶圆的损伤风险。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 适应性 耦合 等离子 刻蚀 | ||
【主权项】：
一种适应性耦合等离子刻蚀机，用于刻蚀晶圆，其特征在于，所述适应性耦合等离子刻蚀机包括： 具有反应空间并在反应空间中产生等离子体的反应腔、设置于所述反应腔中且用于支撑所述晶圆的下电极、设置于反应腔上方中心区域的螺旋型线圈组件；所述反应腔的上腔壁由石英窗口和围绕所述石英窗口的第一衬套构成。
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