[实用新型]提高溅射阴极靶材利用率和镀层均匀性的装置

摘要

本实用新型公开了一种提高溅射阴极靶材利用率和镀层均匀性的装置，轴向往复运动连接件与凸轮系统运动机构固定连接，径向旋转运动连接件与伺服电机驱动机构固定连接，进水支撑管的左右端分别与轴向往复运动连接件和径向旋转运动连接件固定连接，磁铁组件固定在进水支撑管上，磁铁组件在空间三个自由度允许的范围内做周期性轴向直线往复运动和径向旋转往复运动。本实用新型使靶材在轴向刻蚀均匀性大大提高，进而削弱靶材管端部过度刻蚀现象，避免靶材管端部径向刻蚀凹槽的产生，延长靶材使用寿命，提高靶材利用率，提高溅射出的靶材粒子在靶管径向特定角度内的空间分布均匀性，得到的沉积薄膜质量有很大提升，镀层的厚度均匀性大幅度改善。

主权项

一种提高溅射阴极靶材利用率和镀层均匀性的装置，其特征在于：包括有凸轮系统运动机构、轴向往复运动连接件、进水支撑管、磁铁组件、径向旋转运动连接件和伺服电机驱动机构，所述的轴向往复运动连接件与凸轮系统运动机构固定连接，径向旋转运动连接件与伺服电机驱动机构固定连接，所述的进水支撑管的左右端分别与轴向往复运动连接件和径向旋转运动连接件固定连接，所述的磁铁组件固定在进水支撑管上。