[实用新型]基于左手材料的去互耦天线阵有效
| 申请号： | 201420176750.X | 申请日： | 2014-04-11 |
| 公开（公告）号： | CN203800171U | 公开（公告）日： | 2014-08-27 |
| 发明（设计）人： | 孙冉冉;孙绪保;姜琳;刘树国;张亚莉;申雪雪 | 申请（专利权）人： | 山东科技大学 |
| 主分类号： | H01Q1/38 | 分类号： | H01Q1/38;H01Q1/52;H01Q21/00 |
| 代理公司： | 青岛发思特专利商标代理有限公司 37212 | 代理人： | 耿霞 |
| 地址： | 266510 山东省青*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及微带天线阵技术领域，具体涉及一种基于左手材料的去互耦天线阵，左手材料覆盖层和天线阵层分别设于中间介质层两侧；左手材料覆盖层由上覆盖层，左手材料介质层和下覆盖层组成，上、下覆盖层之间设置左手材料介质层，下覆盖层与中间介质层相接触，天线阵层由金属贴片层、天线电介质层和金属地板层组成，金属贴片层与中间介质层相接触，天线电介质层设于金属贴片层和金属地板层之间。本实用新型采用平面微带线结构，适于集成批量加工，基本单元I、II分别作为天线阵的上覆盖层和下覆盖层，增加了天线增益、改善了方向性，同时也减小了天线的尺寸；由于左手材料的作用，抑制了天线阵的表面波，减小了阵元之间的互耦。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 左手 材料 去互耦 天线阵 | ||
【主权项】：
一种基于左手材料的去互耦天线阵，其特征在于，包括左手材料覆盖层、中间介质层（4）和天线阵层，左手材料覆盖层和天线阵层分别设于中间介质层（4）两侧；左手材料覆盖层由上覆盖层（1）、左手材料介质层（2）和下覆盖层（3）组成，上覆盖层（1）和下覆盖层（3）之间设置左手材料介质层（2），下覆盖层（3）与中间介质层（4）相接触，天线阵层由金属贴片层（5）、天线电介质层（6）和金属地板层（7）组成，金属贴片层（5）与中间介质层（6）相接触，天线电介质层（6）设于金属贴片层（5）和金属地板层（7）之间。
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