[实用新型]一种MOCVD石墨盘有效
| 申请号： | 201420202917.5 | 申请日： | 2014-04-24 |
| 公开（公告）号： | CN203820925U | 公开（公告）日： | 2014-09-10 |
| 发明（设计）人： | 李鸿渐;李盼盼;李志聪;孙一军;王国宏 | 申请（专利权）人： | 扬州中科半导体照明有限公司 |
| 主分类号： | C30B25/12 | 分类号： | C30B25/12 |
| 代理公司： | 扬州市锦江专利事务所 32106 | 代理人： | 江平 |
| 地址： | 225009 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 一种MOCVD石墨盘，涉及MOCVD外延片生产技术领域，本实用新型包括大石墨盘和小石墨盘，在大石墨盘上设有通气小孔和栓，在小石墨盘中心的背部设置与栓匹配的支撑凹槽，小石墨盘通过支撑凹槽和栓的配合，布置在大石墨盘上方；在小石墨盘上设置有中心片槽和边缘片槽，边缘片槽沿中心片槽的外周均布；每个边缘片槽的深度分别一致，每个边缘片槽的深度均大于中心片槽的深度。本实用新型通过对现有小石磨盘进行改良，设计中心和边缘深度不一致的片槽，中心片槽的深度小于边缘片槽的深度，改善了由于栓导热造成的小盘中心局部温度较高，从而降低小石墨盘中心和边缘温度差异，最终获得均匀性很好的外延片。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 mocvd 石墨 | ||
【主权项】：
一种MOCVD石墨盘，包括大石墨盘和小石墨盘，在大石墨盘上设有通气小孔和栓，在小石墨盘中心的背部设置与栓匹配的支撑凹槽，所述小石墨盘通过支撑凹槽和栓的配合，布置在大石墨盘上方；在小石墨盘上设置有中心片槽和边缘片槽，所述边缘片槽沿中心片槽的外周均布；其特征在于：每个所述的边缘片槽的深度分别一致，每个所述的边缘片槽的深度均大于中心片槽的深度。
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