[实用新型]晶圆抛光装置有效
| 申请号： | 201420207651.3 | 申请日： | 2014-04-25 |
| 公开（公告）号： | CN203665284U | 公开（公告）日： | 2014-06-25 |
| 发明（设计）人： | 林涛;邹晓明;陶源 | 申请（专利权）人： | 上海合晶硅材料有限公司 |
| 主分类号： | B24B29/02 | 分类号： | B24B29/02 |
| 代理公司： | 上海弼兴律师事务所 31283 | 代理人： | 胡美强;杨东明 |
| 地址： | 201617 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种晶圆抛光装置，其包括有至少一圆盘形的抛头、至少一导轮、一中心轮、至少一陶瓷盘和一磨床，陶瓷盘设置于磨床上，抛头抵接陶瓷盘于磨床上，陶瓷盘用于与磨床相对运动以对晶圆进行抛光，导轮和中心轮与陶瓷盘的外圆周的侧边滚动接触，导轮通过一环设于导轮的外圆周的侧边的抵接部与抛头抵接；抛头与陶瓷盘之间设置有一弹性材料制成的缓冲层，抛头与缓冲层之间设置有一压力调整机构，压力调整机构用于调整抛头对缓冲层的压力施加的位置和大小。通过设置缓冲层和在导轮上设置抵接部，减少了抛头的摆动并降低了抛头摆动对抛光作业的影响，进而避免了橘皮纹的产生，提高了良品率。 | ||
| 搜索关键词： | 抛光 装置 | ||
【主权项】：
一种晶圆抛光装置，其包括有至少一圆盘形的抛头、至少一导轮、一中心轮、至少一陶瓷盘和一磨床，所述陶瓷盘设置于所述磨床上，所述抛头抵接所述陶瓷盘于所述磨床上，所述陶瓷盘用于与所述磨床相对运动以对晶圆进行抛光，所述导轮和所述中心轮与所述陶瓷盘的外圆周的侧边滚动接触，其特征在于，所述导轮通过一环设于所述导轮的外圆周的侧边的抵接部与所述抛头抵接；所述抛头与所述陶瓷盘之间设置有一弹性材料制成的缓冲层，所述抛头与所述缓冲层之间设置有一压力调整机构，所述压力调整机构用于调整所述抛头对所述缓冲层的压力施加的位置和大小。
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