[实用新型]一种内循环型石墨舟清洗装置有效
申请号: | 201420209578.3 | 申请日: | 2014-04-25 |
公开(公告)号: | CN203812898U | 公开(公告)日: | 2014-09-03 |
发明(设计)人: | 李建朋;高奎;张继伟;张术军;郑志勇;石亚芬;裴娜 | 申请(专利权)人: | 天津英利新能源有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;B08B3/08 |
代理公司: | 天津滨海科纬知识产权代理有限公司 12211 | 代理人: | 杨慧玲 |
地址: | 301510 天津市滨海新区津汉公*** | 国省代码: | 天津;12 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型提供一种内循环型石墨舟清洗装置,包括湿法刻蚀机、储酸池和石墨舟清洗机三部分,所述湿法刻蚀机底部的氢氟酸排液口通过管道与储酸池连通,储酸池与石墨舟清洗机之间通过管道连接,所述储酸池上设有溢流口,所述石墨舟清洗机上设有溢流口、纯水管道、排风管道和排酸口,所述储酸池的溢流口、石墨舟清洗机的溢流口和排酸口通过管道与废酸排放管道相连,所述连通储酸池和石墨舟清洗机的管道上设有隔膜泵,所述石墨舟清洗机上的纯水管道上和石墨舟清洗机的排酸口设有截止阀。本实用新型的有益效果是:本实用新型无需添加新鲜的氢氟酸溶液,减低成本,同时加液时无需人工操作,提高了操作安全性。 | ||
搜索关键词: | 一种 循环 石墨 清洗 装置 | ||
【主权项】:
一种内循环型石墨舟清洗装置,其特征在于:包括湿法刻蚀机(1)、储酸池(2)和石墨舟清洗机(6)三部分,所述湿法刻蚀机(1)底部的氢氟酸排液口通过管道与储酸池(2)连通,储酸池(2)与石墨舟清洗机(6)之间通过管道连接,所述储酸池(2)上设有溢流口(3),所述石墨舟清洗机(6)上设有溢流口(10)、纯水管道(7)、排风管道(9)和排酸口(11),所述储酸池(2)的溢流口(3)、石墨舟清洗机(6)的溢流口(10)和排酸口(11)通过管道与废酸排放管道(4)相连。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于天津英利新能源有限公司,未经天津英利新能源有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201420209578.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种精密零件清洗装置的清洗托盘
- 下一篇:一种湿式多片驻车制动器
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的